阪大産研・田中秀和教授、服部梓助教、奈良先端科学技術大・竹本昌平さんらよる研究成果「世界初！シリコン断崖側面構造の原子レベル観察に成功」がプレスリリースされました。

2017.10.10

大阪大学産業科学研究所の田中秀和教授、服部梓助教の研究グループ、及び奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科の大門寛教授、服部賢准教授、楊昊宇（大学院生）、大畑慧訓（大学院生）、竹本昌平（大学院生）のグループは共同で、原子分解能をもつ走査トンネル顕微鏡を用いて、デバイス加工後のシリコン切削側面表面を原子レベルで平坦かつ清浄にし得ることを世界で初めて明らかにしました。
本研究成果は、2017年10月2日に学術誌「Japanese Journal of Applied Physics 」オンライン版に掲載されました。
本研究成果はWEB Optronics onlineにて報道されました。

※ プレスリリース詳細

問い合わせ先：
大阪大学産業科学研究所　教授田中秀和　
E-mail: h-tanaka*sanken.osaka-u.ac.jp(*を@に変換してください）